集束イオンビーム加工観察システム
機器名 集束イオンビーム加工観察システム
分類 その他
型式 集束イオンビーム装置:Quanta 200i 3D イオンミリング装置:IB-19500CP
メーカー 集束イオンビーム装置(FIB/SEM):FEI イオンミリング装置(IM):日本電子
製品名 集束イオンビーム装置:Quanta 200i 3D イオンミリング装置:IB-19500CP
設置年月日 2016/01/24
仕様 ◇集束イオンビーム装置

○FIB(加工・蒸着・観察)
 ・イオン源: Ga液体金属
 ・加速電圧: 2 ~ 30 kV
 ・ビーム電流: 1 pA ~ 65 nA
 ・分解能: 7 nm
 ・蒸着源: カーボン、プラチナ
 ・任意位置への自動加工機能
 ・連続自動断面加工観察機能

○SEM(観察)
 ・電子源: Wフィラメント
 ・加速電圧: 0.2 ~ 30 kV
 ・ビーム電流: 2.2 pA ~ 100 nA
 ・像分解能: 3 nA
 ・3つの観察モード(高真空、低真空、超低真空)

◇イオンミリング装置
 ・イオン源: Arガス
 ・加速電圧: 2 ~ 8 kV
 ・加工速度: 500 µm/h(断面)
 ・加工面積: φ4.5 mm (平面)
 ・間欠加工機能
用途 ◇集束イオンビーム装置
電子材料など多様な材料の断面観察、
ナノからマイクロスケールの微細パターニング、
デポジションによる微細配線や3次元構造の作製

◇イオンミリング装置
柔らかい材料(銅、アルミ、金、はんだ、高分子等)、
硬い材料(セラミックスやガラス等)、
これらが混在している複合材料や異物を含む材料の
観察・分析面の鏡面仕上げ
ジャンル 化学 , 金属 , 電気・電子 , 高分子
その他 国補
戦略的分野成長促進事業